我們看到激光唱片以及一些電路板的表面會有一層非常漂亮的鍍層，那么這些鍍層是不是和普通的金屬表面的鍍層的電鍍工藝一樣呢？顯然如果唱片能夠浸到水溶液中去鍍我們用到的唱片就不會是這個樣子的了。其實唱片的電鍍用到的是真空電鍍工藝，該工藝是區(qū)別于水電鍍工藝的。真空電鍍工藝包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍等物理氣相沉積以及化學(xué)氣相沉積等。其中蒸發(fā)電鍍是指在真空中把制作薄膜的材料加熱蒸發(fā)，使其淀積在電鍍對象的表面上。包括電阻式蒸發(fā)、電子束式蒸發(fā)等；濺射鍍所采用的原理是當(dāng)?shù)入x子體中的高能粒子搭載固體表面時，會與固體表面的原子或者分子發(fā)生能量交換，從而使得這些分子或原子從固體中飛濺出來。離子電鍍兼具了蒸發(fā)電鍍和濺射電鍍的特點，其借助于惰性氣體輝光放電，使鍍料氣化并且離子化，經(jīng)過電磁場加速后以較高的能量轟擊基體表面，外加反應(yīng)氣體形成相應(yīng)的鍍層，離子鍍是三者之中應(yīng)用最廣的。這三種都屬于物理氣相沉積電鍍此外化學(xué)氣相沉積電鍍是指用等離子體中化學(xué)反應(yīng)的方法在基片上沉積薄膜的鍍膜工藝。