我們看到激光唱片以及一些電路板的表面會(huì)有一層非常漂亮的鍍層，那么這些鍍層是不是和普通的金屬表面的鍍層的電鍍工藝一樣呢？顯然如果唱片能夠浸到水溶液中去鍍我們用到的唱片就不會(huì)是這個(gè)樣子的了。其實(shí)唱片的電鍍用到的是真空電鍍工藝，該工藝是區(qū)別于水電鍍工藝的。真空電鍍工藝包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍等物理氣相沉積以及化學(xué)氣相沉積等。其中蒸發(fā)電鍍是指在真空中把制作薄膜的材料加熱蒸發(fā)，使其淀積在電鍍對象的表面上。包括電阻式蒸發(fā)、電子束式蒸發(fā)等；濺射鍍所采用的原理是當(dāng)?shù)入x子體中的高能粒子搭載固體表面時(shí)，會(huì)與固體表面的原子或者分子發(fā)生能量交換，從而使得這些分子或原子從固體中飛濺出來。離子電鍍兼具了蒸發(fā)電鍍和濺射電鍍的特點(diǎn)，其借助于惰性氣體輝光放電，使鍍料氣化并且離子化，經(jīng)過電磁場加速后以較高的能量轟擊基體表面，外加反應(yīng)氣體形成相應(yīng)的鍍層，離子鍍是三者之中應(yīng)用最廣的。這三種都屬于物理氣相沉積電鍍此外化學(xué)氣相沉積電鍍是指用等離子體中化學(xué)反應(yīng)的方法在基片上沉積薄膜的鍍膜工藝。